Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII)

La técnica PIII consiste en la implantación precisa de iones dopantes (como boro, fósforo o arsénico) en materiales semiconductores. El NTC trabaja en concreto sobre la fabricación de dispositivos fotónicos y de momento no dispone de esta técnica ni de ninguna similar para realizar “dopajes” de los componentes que fabrica. …

CPV: 31712100 Mikroelektroniset koneet ja laitteet
Määräaika:
6. elokuuta 2025 kello 23.59
Määräajan tyyppi:
Tarjouksen jättäminen
Teloituspaikka:
Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII)
Myöntävä elin:
Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Myöntämisnumero:
MY25/IUTNA/S/37

1. Comprador

1.1 Comprador

Denominación oficial : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Naturaleza jurídica del comprador : Organismo de Derecho público bajo el control de una autoridad regional
Actividad del poder adjudicador : Educación

2. Procedimiento

2.1 Procedimiento

Título : Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII)
Descripción : La técnica PIII consiste en la implantación precisa de iones dopantes (como boro, fósforo o arsénico) en materiales semiconductores. El NTC trabaja en concreto sobre la fabricación de dispositivos fotónicos y de momento no dispone de esta técnica ni de ninguna similar para realizar “dopajes” de los componentes que fabrica. Se trataría de implementar una nueva técnica permitiendo mejoras en la calidad y las características de los componentes fotónicos fabricados. El elemento principal de un componente fotónico es la guía de onda que se suele realizar sobre silicio (o nitruro de silicio) y esta técnica, al implantar iones de distintos materiales dentro de esas guías, permitiría modificar el índice de refracción del Silicio y mejorar sus propiedades. Como ejemplo de posible aplicación futura, el NTC dispondría de la capacidad de implantar materiales como el Erbio dentro de las guías de ondas en silicio para fabricar amplificadores ópticos integrados, que son esenciales en sistemas de comunicación por fibra óptica para compensar la pérdida de señal a largas distancias. Dado que la fotónica a menudo involucra materiales sensibles al calor, la capacidad de PIII para operar a bajas temperaturas es una gran ventaja, ya que evita daños térmicos en los dispositivos. Además, la técnica PIII es escalable y puede aplicarse a obleas grandes, lo que la hace adecuada para la producción en masa de dispositivos fotónicos. El NTC necesitaría un equipo PIII que permita procesar con obleas de diámetro de 8 pulgadas haciéndole compatible con los equipos que ha ido incorporando últimamente y que trabajan con obleas de este tamaño. Disponer de estas capacidades supondría una mejora importante a nivel interno del instituto y al mismo tiempo permitiría ofrecer un servicio más completo a usuarios externos, tanto grupos de investigación como empresas. Disponer de una herramienta que nos permite modificar las propiedades de las guías de ondas aumentaría los servicios ofertados, asegurando la calidad de estos. Asimismo, facilitaría el acceso por parte de los grupos de investigación del instituto a proyectos de investigación competitivos que se ve dificultada en la actualidad por la falta de este equipo. La infraestructura solicitada pondría las instalaciones del NTC en primer nivel tecnológico y a la par con centros punteros en fotónica y comunicaciones. Mejorar las capacidades de fabricación de circuitos ópticos con diferentes tipos de dopaje en obleas de hasta 8 pulgadas (compatible con fabricación en obleas de 6 pulgadas y muestras) supondría una singularidad del NTC, que lo haría destacar a nivel europeo. En definitiva, la adquisición del equipamiento solicitado permitirá innovar las capacidades del instituto solicitante, posibilitando así continuar en la vanguardia de la fotónica en Europa, tanto en producción científica y fabricación de series importantes de circuitos fotónicos integrados como en transferencia tecnológica. La adquisición de este equipo DE IMPLANTACIÓN DE IONES POR INMERSIÓN EN PLASMA (PIII), está vinculado al proyecto “ICTS MICRONANOFABS- NTC- PLAN ESTRATEGICO 2021-2024” financiado por la concesión directa de subvención del Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades, según Real Decreto 714/2024, de 23 de julio. Esta subvención está financiada por el Mecanismo de Recuperación y Resiliencia de la Unión europea, establecido por el Reglamento (UE) 2020/2094 del Consejo, de 14 de diciembre de 2020, por el que se establece un Instrumento de Recuperación de la Unión Europea para apoyar la recuperación tras la crisis de la COVID-19, y regulado según Reglamento (UE) 2021/241 del Parlamento Europeo y del Consejo de 12 de febrero de 2021 por el que se establece el Mecanismo de Recuperación y Resiliencia.
Identificador del procedimiento : c7a9843b-a695-4088-b50c-7a83d5055c2a
Identificador interno : MY25/IUTNA/S/37
Tipo de procedimiento : Abierto
El procedimiento está acelerado : sí
Justificación del procedimiento acelerado : Ante la necesidad de proceder a la adjudicación, formalización y ejecución del contrato en los plazos fijados para el desarrollo del Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia y dada la complejidad de los trámites para la preparación de la documentación necesaria. Dado que resultan impracticables los plazos y requisitos ordinarios de tramitación. Se considera necesaria la tramitación de urgencia del expediente para poder cumplir los fines del Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia así como las medidas fijadas en el Instrumento Europeo de Recuperación (Next Generation EU) a fin de poder aplicar los fondos europeos.

2.1.1 Finalidad

Naturaleza del contrato : Suministros
Clasificación principal ( cpv ): 31712100 Maquinaria y aparatos microelectrónicos

2.1.2 Lugar de ejecución

Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España

2.1.3 Valor

Valor estimado, IVA excluido : 590 000 Euro

2.1.4 Información general

Base jurídica :
Directiva 2014/24/UE

2.1.6 Motivos de exclusión

Fuentes de los motivos de exclusión : Anuncio
Conflicto de intereses debido a su participación en el procedimiento de contratación : Conflicto de intereses debido a que el licitador haya participado en el procedimiento de contratación objeto de este contrato.

5. Lote

5.1 Identificación técnica del lote : LOT-0000

Título : Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII)
Descripción : La técnica PIII consiste en la implantación precisa de iones dopantes (como boro, fósforo o arsénico) en materiales semiconductores. El NTC trabaja en concreto sobre la fabricación de dispositivos fotónicos y de momento no dispone de esta técnica ni de ninguna similar para realizar “dopajes” de los componentes que fabrica. Se trataría de implementar una nueva técnica permitiendo mejoras en la calidad y las características de los componentes fotónicos fabricados. El elemento principal de un componente fotónico es la guía de onda que se suele realizar sobre silicio (o nitruro de silicio) y esta técnica, al implantar iones de distintos materiales dentro de esas guías, permitiría modificar el índice de refracción del Silicio y mejorar sus propiedades. Como ejemplo de posible aplicación futura, el NTC dispondría de la capacidad de implantar materiales como el Erbio dentro de las guías de ondas en silicio para fabricar amplificadores ópticos integrados, que son esenciales en sistemas de comunicación por fibra óptica para compensar la pérdida de señal a largas distancias. Dado que la fotónica a menudo involucra materiales sensibles al calor, la capacidad de PIII para operar a bajas temperaturas es una gran ventaja, ya que evita daños térmicos en los dispositivos. Además, la técnica PIII es escalable y puede aplicarse a obleas grandes, lo que la hace adecuada para la producción en masa de dispositivos fotónicos. El NTC necesitaría un equipo PIII que permita procesar con obleas de diámetro de 8 pulgadas haciéndole compatible con los equipos que ha ido incorporando últimamente y que trabajan con obleas de este tamaño. Disponer de estas capacidades supondría una mejora importante a nivel interno del instituto y al mismo tiempo permitiría ofrecer un servicio más completo a usuarios externos, tanto grupos de investigación como empresas. Disponer de una herramienta que nos permite modificar las propiedades de las guías de ondas aumentaría los servicios ofertados, asegurando la calidad de estos. Asimismo, facilitaría el acceso por parte de los grupos de investigación del instituto a proyectos de investigación competitivos que se ve dificultada en la actualidad por la falta de este equipo. La infraestructura solicitada pondría las instalaciones del NTC en primer nivel tecnológico y a la par con centros punteros en fotónica y comunicaciones. Mejorar las capacidades de fabricación de circuitos ópticos con diferentes tipos de dopaje en obleas de hasta 8 pulgadas (compatible con fabricación en obleas de 6 pulgadas y muestras) supondría una singularidad del NTC, que lo haría destacar a nivel europeo. En definitiva, la adquisición del equipamiento solicitado permitirá innovar las capacidades del instituto solicitante, posibilitando así continuar en la vanguardia de la fotónica en Europa, tanto en producción científica y fabricación de series importantes de circuitos fotónicos integrados como en transferencia tecnológica. La adquisición de este equipo DE IMPLANTACIÓN DE IONES POR INMERSIÓN EN PLASMA (PIII), está vinculado al proyecto “ICTS MICRONANOFABS- NTC- PLAN ESTRATEGICO 2021-2024” financiado por la concesión directa de subvención del Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades, según Real Decreto 714/2024, de 23 de julio. Esta subvención está financiada por el Mecanismo de Recuperación y Resiliencia de la Unión europea, establecido por el Reglamento (UE) 2020/2094 del Consejo, de 14 de diciembre de 2020, por el que se establece un Instrumento de Recuperación de la Unión Europea para apoyar la recuperación tras la crisis de la COVID-19, y regulado según Reglamento (UE) 2021/241 del Parlamento Europeo y del Consejo de 12 de febrero de 2021 por el que se establece el Mecanismo de Recuperación y Resiliencia.
Identificador interno : MY25/IUTNA/S/37

5.1.1 Finalidad

Naturaleza del contrato : Suministros
Clasificación principal ( cpv ): 31712100 Maquinaria y aparatos microelectrónicos

5.1.2 Lugar de ejecución

Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Información complementaria :

5.1.3 Duración estimada

Duración : 9 Mes

5.1.6 Información general

Participación reservada : La participación no está reservada.
Proyecto de contratación pública financiado total o parcialmente con fondos de la UE
La contratación pública está cubierta por el Acuerdo sobre Contratación Pública (ACP) : no

5.1.7 Contratación estratégica

Objetivo de la contratación estratégica : Ninguna contratación estratégica
Enfoque para reducir el impacto ambiental : Otros
Objetivo social promovido : Otros

5.1.10 Criterios de adjudicación

Criterio :
Tipo : Precio
Descripción : Oferta económica.
Categoría del criterio de adjudicación de umbral : Ponderación (puntos, exacto)
Criterio de adjudicación: número : 100

5.1.11 Pliegos de contratación

5.1.12 Condiciones de la contratación pública

Condiciones de presentación :
Presentación electrónica : Obligatoria
Lenguas en las que pueden presentarse las ofertas o solicitudes de participación : español
Catálogo electrónico : No autorizada
Plazo de recepción de ofertas : 06/08/2025 23:59 +02:00
Plazo en el que la oferta debe seguir siendo válida : 15 Día
Información sobre la apertura pública :
Fecha de apertura : 11/09/2025 09:00 +02:00
Lugar : Sala Centro. Edificio Rectorado 1ª planta. Universitat Politècnica de València.
Condiciones del contrato :
La ejecución del contrato debe realizarse en el marco de programas de empleo protegido : No
Condiciones relativas a la ejecución del contrato : Ver apartad X del cuadro de características..
Facturación electrónica : Obligatoria
Se utilizarán pedidos electrónicos : no
Se utilizará el pago electrónico : sí

5.1.15 Técnicas

Acuerdo marco :
Ningún acuerdo marco
Información sobre el sistema dinámico de adquisición :
Ningún sistema dinámico de adquisición

5.1.16 Información adicional, mediación y recurso

Organización encargada de los procedimientos de recurso : Rectorado de la Universitat Politècnica de València - Universitat Politècnica de València
Información sobre los plazos de revisión : Advertir a los interesados que el presente acto pone fin a la vía administrativa. Contra el mismo se podrá interponer recurso Contencioso-Administrativo ante el órgano jurisdiccional competente de lo Contencioso-Administrativo de la Comunidad Valenciana, dentro del plazo de dos meses contados desde el día siguiente al de la recepción de la notificación de la presente Resolución. No obstante, los interesados podrán optar por interponer contra esta resolución un recurso de reposición, en el plazo de un mes, ante el mismo órgano que la dictó, en cuyo caso no cabrá interponer el recurso Contencioso-Administrativo anteriormente citado en tanto recaiga resolución expresa o presunta de recurso de reposición, de acuerdo con lo dispuesto en el artículo 123 y sig. de la ley 39/2015, de 1 de octubre del procedimiento administrativo común de las administraciones públicas (BOE 2 de octubre de 2015).En los casos previstos en el artículo 44 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre de Contratos del Sector Público, advertir a los interesados que esta resolución es definitiva en vía administrativa y contra la misma podrá interponerse potestativamente recurso especial en materia de contratación regulado en dicho artículo, ante el órgano de contratación de la Universitat politècnica de València. El plazo de interposición será de 15 días hábiles, contados a partir del siguiente a aquel en que se remita la notificación del acto impugnado. En los supuestos de financiación por la U.E. (Fondos NEXT GENERATION),el plazo de interposición del recurso especial en materia de contratación, cuando proceda, será de 10 días naturales y se computará en la forma establecida en el artículo 50.1 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre.
Organización que proporciona más información sobre los procedimientos de recurso : Rectorado de la Universitat Politècnica de València - Servicio de Contratación. Edificio Rectorado de la Universitat Politècnica de València

8. Organizaciones

8.1 ORG-0001

Denominación oficial : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Número de registro : 40000260000071
Número de registro : Q4618002B
Localidad : Valencia
Código postal : 46022
Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Punto de contacto : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Correo electrónico : contratacion@upv.es
Teléfono : 963877406
Dirección de internet : http://www.upv.es
Otros puntos de contacto :
Denominación oficial : Servicio de Contratación. Edificio Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Localidad : Valencia
Código postal : 46022
Subdivisión del país (NUTS) : Madrid ( ES300 )
País : España
Dirección de internet : https://www.upv.es/entidades/CYO/
Otros puntos de contacto :
Denominación oficial : Universitat Politècnica de València
Localidad : Valencia
Código postal : 46022
Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Dirección de internet : https://www.upv.es/entidades/CYO/
Funciones de esta organización :
Comprador
Organización encargada de los procedimientos de recurso
Organización que proporciona más información sobre los procedimientos de recurso

Información del anuncio

Identificador/versión del anuncio : 95b2662d-1585-407f-98b6-703f818e6d5e - 01
Tipo de formulario : Licitación
Tipo de anuncio : Anuncio de contrato o de concesión. Régimen normal
Fecha de envío del anuncio : 22/07/2025 13:38 +02:00
Lenguas en las que este anuncio está disponible oficialmente : español
Número de publicación del anuncio : 00482484-2025
Número de la edición del DO S : 139/2025
Fecha de publicación : 23/07/2025