VER PLIEGO DE CLÁUSULAS ADMINISTRATIVAS PARTICULARES Evaporadora de metales I, para realizar contactos eléctricos tipo n
Gegenstand dieses Verfahrens ist die Lieferung und Aufstellung ein vollautomatischen 200-mm-Wafer-Probers. Der Wafer Prober muss für den Dauerbetrieb ausgelegt sein und sollte über fortschrittliche Funktionen für die Handhabung von Wafern und Kassetten verfügen, um mehrere Wafer aufzunehmen und so den Durchsatz erheblich zu steigern. Diese Prüfstation muss für die Charakterisierung …
Pour ses activités de recherche axées sur le développement de technologies FD-SOI de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un nouvel outil de recuit laser microseconde afin de relever les défis technologiques à venir. L'équipement devra comporter un module de traitement avec surveillance in-situ des transitions thermiques, ainsi …
Pour ses activités de recherche, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt ALD. L’équipement est destiné à produire des couches de haute qualité d'électrolyte et d'électrode métallique à base de lithium sur des substrats de 200 mm sur des structures pouvant avoir un rapport d’aspect élevé (jusqu'à 200:1) Le …
El Instituto de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la UPV plantea la adquisición del equipamiento necesario para realizar de manera adecuada y más eficiente los procesos de metrología y litografía en obleas de semiconductores. Se trata, concretamente, de la adquisición un microscopio de escaneo electrónico (SEM, Scanning Electron Microscope por sus …
Gegenstand der Ausschreibung ist die Beschaffung, Lieferung und Installation eines Reactive Ion Etching Systems (RIE). Reaktives Ionenätzen (RIE) ist ein etabliertes Verfahren zur präzisen Strukturierung von Materialien im Nanometerbereich und spielt für unser Institut eine zentrale Rolle in der Bearbeitung zweidimensionaler Materialien. Für unsere geplanten Forschungsarbeiten im Bereich 2D-Materialien benötigen …
Disponer de un equipo de estas características facilitaría el acceso por parte de los grupos de investigación del instituto a proyectos de investigación competitivos que se ve dificultada en la actualidad por la falta de estos equipos. La infraestructura solicitada pondría las instalaciones del NTC en primer nivel tecnológico y …
Le CEA Grenoble pour ses activités de recherche visant à développer les technologies SOI d'un diamètre de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un système LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) compact basé sur un seul tube vertical. Ce système devra traiter automatiquement des plaquettes de 300 mm …
PVD Clustertool (IZM-23.1) PVD Clustertool (IZM-23.1) 1 Stück: PVD Clustertool Die PVD Anlage muss Metallabscheidungsanwendungen für Cu- bzw. Au-Barriere-/Seed-Schichten für TSV und RDL sowie Unterbump-Metallisierungslösungen (UBM) und Aluminiumschichten unterstützen. Sie muss eine gleichmäßige Bedeckung für Halbleiterwafer mit und ohne tiefgeätzte Durchkontaktierung ermöglichen. Darüber hinaus werden grundlegende Anforderungen an die Akzeptanz …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …