A beszerzés célja olyan projektek létrehozása, melyek az Egyetem felsőoktatási tevékenységével, a felsőoktatási intézmény képzési tevékenységéhez kapcsolódó - egyéb - oktatással, a felsőoktatási intézmény alaptevékenységéből származó szellemi értékek közösségi célú megismertetésével és gazdasági hasznosításával, valamint a magyar felsőoktatás gazdasági, társadalmi és nemzetközi kapcsolatainak fejlesztésével kapcsolatosak. Az Egyetem nevelési-oktatási, tehetséggondozási, felsőoktatási, …
Las capacidades de fabricación de materiales y dispositivos a escala micro/nanométrica en obleas de 8” del Instituto de Tecnología Nanofotónica no sólo son notables, sino que están actualmente ampliándose de forma significativa para alcanzar un nivel superlativo en España y Europa. En el marco de esta ampliación de capacidades, que …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
La adquisición de este equipo de Elipsometría Espectroscópica Infrarroja para caracterizar muestras de diferente naturaleza para aplicaciones en el área de la fotónica integrada, está vinculado al proyecto “ICTS MICRONANOFABS- NTC- PLAN ESTRATEGICO 2021-2024” financiado por la concesión directa de subvención del Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades, según Real …
Standard Cleaning Batch Tool for 130 nm Technology on 200mm Si wafers Standard Cleaning Batch Tool for 130 nm Technology on 200mm Si wafers
La capacidad actual de realizar depósitos de materiales dieléctricos en el instituto NTC a escala micro/nanométrica y nivel de oblea está limitada a técnicas de depósito químico en fase vapor (CVD). Se dispone de equipos de depósito químico de vapor mejorados con plasma cuales ofrecen películas delgadas dieléctricas amorfas. El …
Pour ses activités de recherche, le CEA de Grenoble souhaite acquérir un équipement de moulage par compression. Les options obligatoires sont les suivantes : - Formation maintenance niveau 1 - Formation maintenance avancée Les options facultatives sont les suivantes : - Moule de 297 mm de diamètre dédié aux wafers …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
Le CEA Leti souhaite faire l’acquisition d’un équipement 200 mm de dépôts PLD (Pulsed Laser Deposition) pour le développement des technologies CMOS et plus particulièrement des matériaux piézoélectriques. Il est destiné à réaliser les dépôts suivants : nitrure de Titane (TiN), oxyde d’indium-étain (ITO), nitrure d’aluminium scandium (ScAlN), nitrure d’aluminium …
Le marché a pour objet l'acquisition d'une graveuse laser (usinage, perçage, découpe) multi substrat et les logiciels associés pour des réalisations complexes de PCB, de composants, de circuits RF et micro-ondes sur multi-substrats afin de répondre aux besoins courants de fabrication rapide de prototype électronique pouvant intégrer des facteurs de …