Adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas (ALD) de óxido de aluminio, óxido de titanio y óxido de hafnio

La capacidad actual de realizar depósitos de materiales dieléctricos en el instituto NTC a escala micro/nanométrica y nivel de oblea está limitada a técnicas de depósito químico en fase vapor (CVD). Se dispone de equipos de depósito químico de vapor mejorados con plasma cuales ofrecen películas delgadas dieléctricas amorfas. El …

CPV: 31712100 Mikroelektronické stroje
Termín:
16. června 2025 23:59
Typ lhůty:
Podání nabídky
Místo provedení:
Adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas (ALD) de óxido de aluminio, óxido de titanio y óxido de hafnio
Misto zadání:
Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Číslo zakázky:
MY25/IUTNA/S/20

1. Comprador

1.1 Comprador

Denominación oficial : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Naturaleza jurídica del comprador : Organismo de Derecho público bajo el control de una autoridad regional
Actividad del poder adjudicador : Educación

2. Procedimiento

2.1 Procedimiento

Título : Adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas (ALD) de óxido de aluminio, óxido de titanio y óxido de hafnio
Descripción : La capacidad actual de realizar depósitos de materiales dieléctricos en el instituto NTC a escala micro/nanométrica y nivel de oblea está limitada a técnicas de depósito químico en fase vapor (CVD). Se dispone de equipos de depósito químico de vapor mejorados con plasma cuales ofrecen películas delgadas dieléctricas amorfas. El proceso ALD consiste en el crecimiento de una película delgada por capas atómicas consecutivas. El hecho de disponer de un equipo ALD que además de aumentar la capacidad de fabricación, ofrecerá uniformidad y conformidad de la película en cualquier escala y tendría un claro impacto sobre la calidad de la investigación realizada al igual que sobre las capacidades ofertadas por el Instituto NTC sería muy alto. ALD es la técnica más avanzada en recubrimiento de película delgada debido al control preciso del espesor de película (nm) que ofrece. Las películas producidas por esta técnica son densas, sin poros y sin defectos, y las condiciones en las que se lleva a cabo el proceso, 1-10 hPa 200-400ºC, son lo suficientemente suaves para ser utilizada con sustratos sensibles. Este tipo de proceso es fundamental también a la hora de trabajar con clientes externos y suministrar controles de calidad y especificaciones técnicas de los dispositivos fabricados. A medida que la industria de los semiconductores sigue evolucionando, el tamaño cada vez más fino de los dispositivos hace que sea especialmente importante encontrar o desarrollar técnicas más avanzadas de crecimiento de películas finas que requieran baja temperatura, una gran precisión en el espesor de la película y una excelente conformabilidad en estructuras tridimensionales (3D). Por tanto, este centro carece de equipamiento necesario que permita asegurar la calidad y cumplimiento de especificaciones a nivel nanométrico durante el proceso de fabricación. Para suplir estas carencias, se solicita la adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas de varios óxidos.
Identificador del procedimiento : 23a21af2-493b-4980-9b67-5311d65bb0ba
Identificador interno : MY25/IUTNA/S/20
Tipo de procedimiento : Abierto
El procedimiento está acelerado : sí
Justificación del procedimiento acelerado : Ante la necesidad de proceder a la adjudicación, formalización y ejecución del contrato en los plazos fijados para el desarrollo del Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia y dada la complejidad de los trámites para la preparación de la documentación necesaria. Dado que resultan impracticables los plazos y requisitos ordinarios de tramitación, se considera necesaria la tramitación de urgencia del expediente para poder cumplir los fines del Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia, así como las medidas fijadas en el Instrumento Europeo de Recuperación (Next Generation EU) a fin de poder aplicar los fondos europeos.
Principales características del procedimiento :

2.1.1 Finalidad

Naturaleza del contrato : Suministros
Clasificación principal ( cpv ): 31712100 Maquinaria y aparatos microelectrónicos

2.1.2 Lugar de ejecución

Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España

2.1.3 Valor

Valor estimado, IVA excluido : 450 000 Euro

2.1.4 Información general

Base jurídica :
Directiva 2014/24/UE

2.1.6 Motivos de exclusión

Fuentes de los motivos de exclusión : Anuncio
Conflicto de intereses debido a su participación en el procedimiento de contratación : Conflicto de intereses debido a que el licitador haya participado en el procedimiento de contratación objeto de este contrato.

5. Lote

5.1 Identificación técnica del lote : LOT-0000

Título : Adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas (ALD) de óxido de aluminio, óxido de titanio y óxido de hafnio
Descripción : La capacidad actual de realizar depósitos de materiales dieléctricos en el instituto NTC a escala micro/nanométrica y nivel de oblea está limitada a técnicas de depósito químico en fase vapor (CVD). Se dispone de equipos de depósito químico de vapor mejorados con plasma cuales ofrecen películas delgadas dieléctricas amorfas. El proceso ALD consiste en el crecimiento de una película delgada por capas atómicas consecutivas. El hecho de disponer de un equipo ALD que además de aumentar la capacidad de fabricación, ofrecerá uniformidad y conformidad de la película en cualquier escala y tendría un claro impacto sobre la calidad de la investigación realizada al igual que sobre las capacidades ofertadas por el Instituto NTC sería muy alto. ALD es la técnica más avanzada en recubrimiento de película delgada debido al control preciso del espesor de película (nm) que ofrece. Las películas producidas por esta técnica son densas, sin poros y sin defectos, y las condiciones en las que se lleva a cabo el proceso, 1-10 hPa 200-400ºC, son lo suficientemente suaves para ser utilizada con sustratos sensibles. Este tipo de proceso es fundamental también a la hora de trabajar con clientes externos y suministrar controles de calidad y especificaciones técnicas de los dispositivos fabricados. A medida que la industria de los semiconductores sigue evolucionando, el tamaño cada vez más fino de los dispositivos hace que sea especialmente importante encontrar o desarrollar técnicas más avanzadas de crecimiento de películas finas que requieran baja temperatura, una gran precisión en el espesor de la película y una excelente conformabilidad en estructuras tridimensionales (3D). Por tanto, este centro carece de equipamiento necesario que permita asegurar la calidad y cumplimiento de especificaciones a nivel nanométrico durante el proceso de fabricación. Para suplir estas carencias, se solicita la adquisición de un equipo de depósito de capas atómicas de varios óxidos.
Identificador interno : MY25/IUTNA/S/20

5.1.1 Finalidad

Naturaleza del contrato : Suministros
Clasificación principal ( cpv ): 31712100 Maquinaria y aparatos microelectrónicos

5.1.2 Lugar de ejecución

Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Información complementaria :

5.1.3 Duración estimada

Duración : 9 Mes

5.1.6 Información general

Participación reservada : La participación no está reservada.
Proyecto de contratación pública financiado total o parcialmente con fondos de la UE
La contratación pública está cubierta por el Acuerdo sobre Contratación Pública (ACP) : no

5.1.7 Contratación estratégica

Objetivo de la contratación estratégica : Ninguna contratación estratégica
Enfoque para reducir el impacto ambiental : Otros
Objetivo social promovido : Otros

5.1.10 Criterios de adjudicación

Criterio :
Tipo : Calidad
Nombre :
Descripción : Características técnicas adicionales.
Categoría del criterio de adjudicación de umbral : Ponderación (puntos, exacto)
Criterio de adjudicación: número : 40
Criterio :
Tipo : Precio
Nombre :
Descripción : Oferta económica.
Categoría del criterio de adjudicación de umbral : Ponderación (puntos, exacto)
Criterio de adjudicación: número : 60
Descripción del método que debe utilizarse si la ponderación no puede expresarse mediante criterios :
Justificación de la no indicación de la ponderación de los criterios de adjudicación :

5.1.11 Pliegos de contratación

5.1.12 Condiciones de la contratación pública

Condiciones de presentación :
Presentación electrónica : Obligatoria
Lenguas en las que pueden presentarse las ofertas o solicitudes de participación : español
Catálogo electrónico : No autorizada
Plazo de recepción de ofertas : 16/06/2025 23:59 +02:00
Plazo en el que la oferta debe seguir siendo válida : 2 Mes
Información sobre la apertura pública :
Fecha de apertura : 18/06/2025 09:00 +02:00
Lugar : Sala Centro. Edificio Rectorado 1ª planta. Universitat Politècnica de València.
Condiciones del contrato :
La ejecución del contrato debe realizarse en el marco de programas de empleo protegido : No
Condiciones relativas a la ejecución del contrato : Ver apartado X del cuadro de características..
Facturación electrónica : Obligatoria
Se utilizarán pedidos electrónicos : no
Se utilizará el pago electrónico : sí

5.1.15 Técnicas

Acuerdo marco :
Ningún acuerdo marco
Información sobre el sistema dinámico de adquisición :
Ningún sistema dinámico de adquisición

5.1.16 Información adicional, mediación y recurso

Organización encargada de los procedimientos de recurso : Rectorado de la Universitat Politècnica de València - Universitat Politècnica de València
Información sobre los plazos de revisión : hasta 2025-06-20+02:00

8. Organizaciones

8.1 ORG-0001

Denominación oficial : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Número de registro : 40000260000071
Número de registro : Q4618002B
Localidad : Valencia
Código postal : 46022
Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Punto de contacto : Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Correo electrónico : contratacion@upv.es
Teléfono : 963877406
Dirección de internet : http://www.upv.es
Otros puntos de contacto :
Denominación oficial : Universitat Politècnica de València
Localidad : Valencia
Código postal : 46022
Subdivisión del país (NUTS) : Valencia / València ( ES523 )
País : España
Dirección de internet : http://www.upv.es/entidades/CYO/
Funciones de esta organización :
Comprador
Organización encargada de los procedimientos de recurso
Información del anuncio
Identificador/versión del anuncio : b3157320-ec68-4a59-8f59-fc10902c98d6 - 01
Tipo de formulario : Licitación
Tipo de anuncio : Anuncio de contrato o de concesión. Régimen normal
Fecha de envío del anuncio : 30/05/2025 10:42 +02:00
Lenguas en las que este anuncio está disponible oficialmente : español
Número de publicación del anuncio : 00353456-2025
Número de la edición del DO S : 104/2025
Fecha de publicación : 02/06/2025