Reactive Ion Etching (IZM-22) - PR915350-2590-P

Reactive Ion Etching (IZM-22) Reactive Ion Etching (IZM-22) Los 1: Reactive Ion Etching (RIE) (IZM-22.1) Das reaktive Ionenätzen (RIE) findet Anwendung bei der Vorbehandlung verschiedener Oberflächen für die Galvanisierung, das Kleben und auch für eine bessere Haftung von organischen Filmen wie Polymeren und Resist, für die Herstellung von Mikrostrukturen, das …

CPV: 31712100 Микроелектронни машини и уреди
Място на изпълнение:
Reactive Ion Etching (IZM-22) - PR915350-2590-P
Издаващ орган:
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Номер на наградата:
PR915350-2590-P

1. Beschaffer

1.1 Beschaffer

Offizielle Bezeichnung : Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Rechtsform des Erwerbers : Öffentliches Unternehmen
Tätigkeit des öffentlichen Auftraggebers : Allgemeine öffentliche Verwaltung

2. Verfahren

2.1 Verfahren

Titel : Reactive Ion Etching (IZM-22) - PR915350-2590-P
Beschreibung : Reactive Ion Etching (IZM-22)
Kennung des Verfahrens : 0a7dbb4b-3818-4d01-904e-2254177bca0c
Interne Kennung : PR915350-2590-P
Verfahrensart : Offenes Verfahren
Das Verfahren wird beschleunigt : nein

2.1.1 Zweck

Art des Auftrags : Lieferungen
Haupteinstufung ( cpv ): 31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte

2.1.2 Erfüllungsort

Stadt : Berlin
Postleitzahl : 13355
Land, Gliederung (NUTS) : Berlin ( DE300 )
Land : Deutschland

2.1.4 Allgemeine Informationen

Rechtsgrundlage :
Richtlinie 2014/24/EU
vgv -

5. Los

5.1 Technische ID des Loses : LOT-0001

Titel : Los 1: Reactive Ion Etching (RIE) (IZM-22.1)
Beschreibung : Los 1: Reactive Ion Etching (RIE) (IZM-22.1) Das reaktive Ionenätzen (RIE) findet Anwendung bei der Vorbehandlung verschiedener Oberflächen für die Galvanisierung, das Kleben und auch für eine bessere Haftung von organischen Filmen wie Polymeren und Resist, für die Herstellung von Mikrostrukturen, das Ätzen von Mustern auf Wafern und die Herstellung integrierter Schaltungen. Es wird für den präzisen und kontrollierten Materialabtrag eingesetzt. Um wiederholbare Ätzergebnisse mit hohem Durchsatz zu erzielen, sind getrennte Prozesskammern oder besser komplett getrennte Anlagen erforderlich, eine für organische und eine für anorganische Ätzschichten (oder zusätzliche Metallschichten), um jegliche Kreuzkontamination zu vermeiden; außerdem sollte die Handhabung der Filmrahmen in einer getrennten Maschine erfolgen. Die Gleichmäßigkeit des reaktiven Ionenätzens mit den typischen Gasen Ar, SF6, CF4, O2, N2 sollte besser als ≤5% über einen 200mm-Wafer sein, um geringe Prozessschwankungen und eine hohe Dickengleichmäßigkeit zu ermöglichen, was für eine hohe Ausbeute entscheidend ist. Das System sollte in der Lage sein, Wafer mit einem Durchmesser von 100 bis 200 mm ohne oder mit minimalem Aufwand nachzurüsten und mit Dicken im Bereich von 300-1200 µm zu bearbeiten. Optionen: - Die erforderlichen Pumpen (vorzugsweise von Edwards) und die Flüssigkeitskühlung sind im Kostenvoranschlag und Budget enthalten
Interne Kennung : LOT-0001

5.1.1 Zweck

Art des Auftrags : Lieferungen
Haupteinstufung ( cpv ): 31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte

5.1.2 Erfüllungsort

Stadt : Berlin
Postleitzahl : 13355
Land, Gliederung (NUTS) : Berlin ( DE300 )
Land : Deutschland
Zusätzliche Informationen :

5.1.3 Geschätzte Dauer

Laufzeit : 15 Monat

5.1.6 Allgemeine Informationen

Auftragsvergabeprojekt ganz oder teilweise aus EU-Mitteln finanziert
Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen : ja

5.1.7 Strategische Auftragsvergabe

Ziel der strategischen Auftragsvergabe : Keine strategische Beschaffung

5.1.10 Zuschlagskriterien

Kriterium :
Art : Qualität
Bezeichnung : Technische Ausführung
Beschreibung : Technische Ausführung
Kategorie des Schwellen-Zuschlagskriteriums : Gewichtung (Prozentanteil, genau)
Zuschlagskriterium — Zahl : 65
Kriterium :
Art : Preis
Bezeichnung : Preis
Beschreibung : Preis
Kategorie des Schwellen-Zuschlagskriteriums : Gewichtung (Prozentanteil, genau)
Zuschlagskriterium — Zahl : 35

5.1.15 Techniken

Rahmenvereinbarung :
Keine Rahmenvereinbarung
Informationen über das dynamische Beschaffungssystem :
Kein dynamisches Beschaffungssystem

5.1.16 Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung

Überprüfungsstelle : Vergabekammern des Bundes
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt : Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt : Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.

5.1 Technische ID des Loses : LOT-0002

Titel : Los 2: Reactive Ion Etching (RIE) (IZM-22.2)
Beschreibung : Los 2: Reactive Ion Etching (RIE) (IZM-22.2) Das reaktive Ionenätzen (RIE) findet Anwendung bei der Vorbehandlung verschiedener Oberflächen für die Galvanisierung, das Kleben und auch für eine bessere Haftung von organischen Filmen wie Polymeren und Resist, für die Herstellung von Mikrostrukturen, das Ätzen von Mustern auf Wafern und die Herstellung integrierter Schaltungen. Es wird für den präzisen und kontrollierten Materialabtrag eingesetzt. Um wiederholbare Ätzergebnisse mit hohem Durchsatz zu erzielen, sind getrennte Prozesskammern oder besser komplett getrennte Anlagen erforderlich, eine für organische und eine für anorganische Ätzschichten (oder zusätzliche Metallschichten), um jegliche Kreuzkontamination zu vermeiden; außerdem sollte die Handhabung der Filmrahmen in einer getrennten Maschine erfolgen. Die Gleichmäßigkeit des reaktiven Ionenätzens mit den typischen Gasen Ar, SF6, CF4, O2, N2 sollte besser als ≤5% über einen 200mm-Wafer sein, um geringe Prozessschwankungen und eine hohe Dickengleichmäßigkeit zu ermöglichen, was für eine hohe Ausbeute entscheidend ist. Das System sollte in der Lage sein, Wafer mit einem Durchmesser von 100 bis 200 mm ohne oder mit minimalem Aufwand nachzurüsten und mit Dicken im Bereich von 300-1200 µm zu bearbeiten. Optionen: - Die erforderlichen Pumpen (vorzugsweise von Edwards) und die Flüssigkeitskühlung sind im Kostenvoranschlag und Budget enthalten
Interne Kennung : LOT-0002

5.1.1 Zweck

Art des Auftrags : Lieferungen
Haupteinstufung ( cpv ): 31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte

5.1.2 Erfüllungsort

Stadt : Berlin
Postleitzahl : 13355
Land, Gliederung (NUTS) : Berlin ( DE300 )
Land : Deutschland
Zusätzliche Informationen :

5.1.3 Geschätzte Dauer

Laufzeit : 15 Monat

5.1.6 Allgemeine Informationen

Auftragsvergabeprojekt ganz oder teilweise aus EU-Mitteln finanziert
Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen : ja

5.1.7 Strategische Auftragsvergabe

Ziel der strategischen Auftragsvergabe : Keine strategische Beschaffung

5.1.10 Zuschlagskriterien

Kriterium :
Art : Qualität
Bezeichnung : Technische Auführung
Beschreibung : Technische Ausführung
Kategorie des Schwellen-Zuschlagskriteriums : Gewichtung (Prozentanteil, genau)
Zuschlagskriterium — Zahl : 65
Kriterium :
Art : Preis
Bezeichnung : Preis
Beschreibung : Preis
Kategorie des Schwellen-Zuschlagskriteriums : Gewichtung (Prozentanteil, genau)
Zuschlagskriterium — Zahl : 35

5.1.15 Techniken

Rahmenvereinbarung :
Keine Rahmenvereinbarung
Informationen über das dynamische Beschaffungssystem :
Kein dynamisches Beschaffungssystem

5.1.16 Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung

Überprüfungsstelle : Vergabekammern des Bundes
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt : Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt : Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.

6. Ergebnisse

Wert aller in dieser Bekanntmachung vergebenen Verträge : Nicht veröffentlicht
Begründungscode : Sonstiges öffentliches Interesse

6.1 Ergebnis, Los-– Kennung : LOT-0001

Es wurde mindestens ein Gewinner ermittelt.

6.1.2 Informationen über die Gewinner

Wettbewerbsgewinner :
Offizielle Bezeichnung : Trymax Semiconductor Equipment BV
Angebot :
Kennung des Angebots : TEN-0001
Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen : LOT-0001
Wert der Ausschreibung : Nicht veröffentlicht
Begründungscode : Sonstiges öffentliches Interesse
Vergabe von Unteraufträgen : Nein
Informationen zum Auftrag :
Kennung des Auftrags : CON-0001
Datum des Vertragsabschlusses : 24/06/2025

6.1.4 Statistische Informationen

Eingegangene Angebote oder Teilnahmeanträge :
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote auf elektronischem Wege eingereicht
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Kleinst-, kleinen oder mittleren Unternehmen
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Bietern, die in anderen Ländern des Europäischen Wirtschaftsraums registriert sind als dem Land des Beschaffers
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Bieter aus Ländern außerhalb des Europäischen Wirtschaftsraums
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 0

6.1 Ergebnis, Los-– Kennung : LOT-0002

Es wurde mindestens ein Gewinner ermittelt.

6.1.2 Informationen über die Gewinner

Wettbewerbsgewinner :
Offizielle Bezeichnung : Trymax Semiconductor Equipment BV
Angebot :
Kennung des Angebots : TEN-0002
Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen : LOT-0002
Wert der Ausschreibung : Nicht veröffentlicht
Begründungscode : Sonstiges öffentliches Interesse
Vergabe von Unteraufträgen : Nein
Informationen zum Auftrag :
Kennung des Auftrags : CON-0002
Datum des Vertragsabschlusses : 24/06/2025

6.1.4 Statistische Informationen

Eingegangene Angebote oder Teilnahmeanträge :
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote auf elektronischem Wege eingereicht
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Kleinst-, kleinen oder mittleren Unternehmen
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Bietern, die in anderen Ländern des Europäischen Wirtschaftsraums registriert sind als dem Land des Beschaffers
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 1
Art der eingegangenen Einreichungen : Angebote von Bieter aus Ländern außerhalb des Europäischen Wirtschaftsraums
Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge : 0

8. Organisationen

8.1 ORG-7001

Offizielle Bezeichnung : Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Registrierungsnummer : DE 129515865
Postanschrift : Hansastraße 27c
Stadt : München
Postleitzahl : 80686
Land, Gliederung (NUTS) : München, Kreisfreie Stadt ( DE212 )
Land : Deutschland
Kontaktperson : Einkauf Betrieb und Infrastruktur
Telefon : +49891205-0
Rollen dieser Organisation :
Beschaffer
Zentrale Beschaffungsstelle, die öffentliche Aufträge oder Rahmenvereinbarungen im Zusammenhang mit für andere Beschaffer bestimmten Bauleistungen, Lieferungen oder Dienstleistungen vergibt/abschließt
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt

8.1 ORG-7004

Offizielle Bezeichnung : Vergabekammern des Bundes
Registrierungsnummer : t:022894990
Postanschrift : Kaiser-Friedrich-Straße 16
Stadt : Bonn
Postleitzahl : 53113
Land, Gliederung (NUTS) : Bonn, Kreisfreie Stadt ( DEA22 )
Land : Deutschland
Telefon : +49 228 9499-0
Rollen dieser Organisation :
Überprüfungsstelle

8.1 ORG-7005

Offizielle Bezeichnung : Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Registrierungsnummer : DE-129515865
Postanschrift : Hansastraße 27c
Stadt : München
Postleitzahl : 80686
Land, Gliederung (NUTS) : München, Kreisfreie Stadt ( DE212 )
Land : Deutschland
Telefon : +49 89 1205-0
Internetadresse : https://www.fraunhofer.de
Rollen dieser Organisation :
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt

8.1 ORG-0001

Offizielle Bezeichnung : Trymax Semiconductor Equipment BV
Größe des Wirtschaftsteilnehmers : Mittleres Unternehmen
Registrierungsnummer : NL 820830719.B01
Postanschrift : Bijsterhuizen 11-52
Stadt : Nijmegen
Postleitzahl : 6546 AS
Land, Gliederung (NUTS) : Arnhem/Nijmegen ( NL226 )
Land : Niederlande
Telefon : +31689937317
Rollen dieser Organisation :
Bieter
Wirtschaftlicher Eigentümer
Gewinner dieser Lose : LOT-0001 LOT-0002

8.1 ORG-7006

Offizielle Bezeichnung : Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Registrierungsnummer : 0204:994-DOEVD-83
Stadt : Bonn
Postleitzahl : 53119
Land, Gliederung (NUTS) : Bonn, Kreisfreie Stadt ( DEA22 )
Land : Deutschland
Telefon : +49228996100
Rollen dieser Organisation :
TED eSender

11. Informationen zur Bekanntmachung

11.1 Informationen zur Bekanntmachung

Kennung/Fassung der Bekanntmachung : e1c0b40e-1a58-4571-ba55-61bd3cf7f5ff - 01
Formulartyp : Ergebnis
Art der Bekanntmachung : Bekanntmachung vergebener Aufträge oder Zuschlagsbekanntmachung – Standardregelung
Datum der Übermittlung der Bekanntmachung : 02/07/2025 11:12 +02:00
Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist : Deutsch Englisch

11.2 Informationen zur Veröffentlichung

Veröffentlichungsnummer der Bekanntmachung : 00432447-2025
ABl. S – Nummer der Ausgabe : 125/2025
Datum der Veröffentlichung : 03/07/2025