Lieferung und Installation eines Dual Beam Sputter Systems Die beabsichtigte Beauftragung beinhaltet die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer neuen, nicht gebrauchten Zwei-Ionen-Strahl-Sputter-Prozessanlage engl. Dual Ion Beam Sputter System (DIBS), im Folgenden als die Prozessanlage bezeichnet. Die Prozessanlage soll für folgende Prozesse zur Erforschung von Materialien und mikroelektronischer Bauelemente genutzt werden: …
La consultation comprend : - La fourniture d’un microscope à faisceau d’ions focalisés (FIB) à plasma couplé avec une colonne de microscope électronique à balayage (MEB), - Des options à chiffrage obligatoire : o Option n°1 : Formation à la maintenance 1er niveau o Option n°2 : Précurseurs supplémentaires o …
PVD Clustertool (IZM-23.1) PVD Clustertool (IZM-23.1) 1 Stück: PVD Clustertool Die PVD Anlage muss Metallabscheidungsanwendungen für Cu- bzw. Au-Barriere-/Seed-Schichten für TSV und RDL sowie Unterbump-Metallisierungslösungen (UBM) und Aluminiumschichten unterstützen. Sie muss eine gleichmäßige Bedeckung für Halbleiterwafer mit und ohne tiefgeätzte Durchkontaktierung ermöglichen. Darüber hinaus werden grundlegende Anforderungen an die Akzeptanz …
Fourniture et installation d'un système de photolithographie par écriture directe pour le laboratoire de Physique de la Matière Condensée (PMC) de l'Ecole polytechnique Fourniture et installation d'un système de photolithographie par écriture directe pour le laboratoire de Physique de la Matière Condensée (PMC) de l'Ecole polytechnique
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
Le projet C3E (Conservation et Exploitation de la collection Concordia) rassemble différentes équipes de recherche d’Ile de France (IMPMC, IJCLab, IPGP) autour d’un programme de conservation et d’analyse de poussières interplanétaires, en particulier la Collection de micrométéorites CONCORDIA. Ce programme a pour but d’équiper l’IMPMC d’instruments pour analyser les particules …
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas. Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el …
Le CEA-Leti souhaite faire l’acquisition d’un équipement de polissage mécano-chimique avec modules de nettoyage et séchage intégrés. L’équipement vise des applications sans contamination métallique pour être utilisé en début de chaine de fabrication des puces. Les matériaux concernés par ce type de polissage sont l’oxyde de silicium, le nitrure et …